#德国艾托特克公司
#向井贤一郎
#金权一
#L·加赫蒂
#L·勃兰
本发明涉及一种形成用于主动组件的电磁屏蔽与热管理的金属层的方法,所述方法优选通过湿式化学金属电镀,在模制化合物的层上使用增粘层并且在所述增粘层上形成至少一个金属层或通过湿式化学金属电镀工艺在所述增粘层上形成至少一个金属层来实现。
一种形成用于主动组件的电磁屏蔽与热管理的金属层的方法,所述方法包含以下步骤(i)提供至少一个主动组件(10),所述主动组件具有前侧(11)、后侧(14)和侧壁(20),所述前侧(11)包含通过模制化合物的层(13)封入的至少一个芯片(12);(ii)在所述后侧上形成保护层(15);(iii)在所述前侧(11)上并且任选地在所述侧壁(20)上形成增粘层(16);(iv)在所述增粘层上形成至少一个金属层(17)或通过湿式化学金属电镀工艺在所述增粘层上形成至少一个金属层(17)。
附件:用于主动组件的电磁屏蔽和热管理的方法
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类型:发明公开
发明人:向井贤一郎,金权一,L·加赫蒂,L·勃兰
专利权人:德国艾托特克公司
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