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发明公开:用于在对温度敏感的基板上热管理高温过程的系统和方法

[公开日期] 2015-09-16 [公开号] CN104919599A
#阿森特太阳能技术公司 #劳伦斯·M·伍兹 #罗森恩·瑞柏林 #约瑟夫
本发明涉及一种用于在具有相对的前外表面和后外表面的柔性聚酰亚胺基板上沉积一个或多个薄膜层的方法,所述方法包括以下步骤:(a)加热所述柔性聚酰亚胺基板,以使得所述柔性聚酰亚胺基板的所述前外表面的温度高于所述柔性聚酰亚胺基板的所述后外表面的温度;以及(b)在所述柔性聚酰亚胺基板的所述前外表面上沉积所述一个或多个薄膜层。本发明还涉及一种用于执行所述方法的沉积区,所述沉积区包括:(a)一个或多个物理气相沉积源,其能够将一种或多种金属材料沉积在所述基板的所述前外表面上;以及(b)一个或多个辐射区边界加热器。

一种用于在具有相对的前外表面和后外表面的柔性聚酰亚胺基板上沉积一个或多个薄膜层的方法,所述方法包括以下步骤:加热所述柔性聚酰亚胺基板,以使得所述柔性聚酰亚胺基板的所述前外表面的温度高于所述柔性聚酰亚胺基板的所述后外表面的温度;以及在所述柔性聚酰亚胺基板的所述前外表面上沉积所述一个或多个薄膜层。
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类型:发明公开
发明人:劳伦斯·M·伍兹,罗森恩·瑞柏林,约瑟夫
专利权人:阿森特太阳能技术公司
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