发明公开：用于管理光学元件中的热的设备及相关的热管理方法

一种用于光学元件(2)的热管理的设备(1),包括：?光学元件(2)；?参考温度下的材料(5)；和?直接位于所述参考温度下的材料(5)和所述光学元件(2)之间的中间气体层(4),其特征在于,所述中间气体层(4)在其至少一部分厚度上处于由所述中间气体层(4)的厚度限定的被称为“瞬态”的扩散状态,使得所述中间气体层(4)中的气体分子的平均自由程与所述厚度的比值在0.1和10之间,并且所述中间气体层的厚度在10μm和5mm之间。