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发明公开:用于冷却磁共振成像设备的发热构件的热管理系统

[公开日期] 2009-05-20 [公开号] CN101435855A
#通用电气公司 #T·伊科斯 #M·阿里克 #Y·V·尤特卡
本发明涉及一种用于冷却磁共振成像设备的发热构件的热管理 系统。具体而言,一种用于冷却磁共振成像(MRI)设备(10)的发热构件 的热管理系统(70)包括至少一个热管(72),其具有邻近诸如梯度线圈 (54)和 或射频线圈(56)的发热构件而布置的部分。当从构件(50,56)中 去除热时,位于热管(72)的相对较热端(90)中的工作流体(76)汽化,并 且朝向该热管(72)的相对较冷端(92)行进。较冷端(92)可操作地联接到 用于从较冷端(92)去除热的散热器(94,96)上,从而提高了系统(70)的总 体效率。热管(72)可沿着水平方向、竖直方向和 或沿着发热构件(50,56) 的对角线布置。

1. 一种用于冷却磁共振成像(MRI)设备(10)的发热构件(50,56)的 热管理系统(70),所述系统(70)包括至少一个热管(72),所述热管(72) 具有与所述磁共振成像设备(10)的发热构件(50,56)相邻的第一端(90), 其中,所述至少一个热管(72)的第一端(90)从所述发热构件(50,56)去除 热。
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类型:发明公开
发明人:T·伊科斯,M·阿里克,Y·V·尤特卡,
专利权人:通用电气公司
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